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キーワード [ selective hydrogenation catalyst ] 一致 188 製品.
表面面水素化触媒 0.3-0.5 Nm 強化された選択性

表面面水素化触媒 0.3-0.5 Nm 強化された選択性

形状 球状
毛穴の大きさ 0.3-0.5 Nm
構成 ニッケル,コバルト,モリブデン,アルミニウム
反応の選択性 95-98%
サイズ 1-3のmm
要求の高い用途のために安定性が向上したC3水素化触媒

要求の高い用途のために安定性が向上したC3水素化触媒

再生可能性 重要 な 活動 損失 を 伴っ て 何 回 も 再生 できる
安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
動作温度 30〜35°C
適用する C3炭化水素の選択的水素化
表面面積 C3 選択的水素化プロセスの触媒 H2 KMH-03

表面面積 C3 選択的水素化プロセスの触媒 H2 KMH-03

毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
再生可能性 重要 な 活動 損失 を 伴っ て 何 回 も 再生 できる
触媒の種類 サポートされた金属触媒
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
活動 C3 水素化のための高い活性
高表面面積球状水素化触媒 触媒反応のための最適な解決策

高表面面積球状水素化触媒 触媒反応のための最適な解決策

形状 球状
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
選択率 高選択性のC3水素化
活性金属 パラジウム (Pd)
適用する C3炭化水素の選択的水素化
活性金属パラジウム水素化触媒 高孔量 0.85-0.95 Cm3/g 精密かつ制御された反応のために

活性金属パラジウム水素化触媒 高孔量 0.85-0.95 Cm3/g 精密かつ制御された反応のために

再利用可能性 そうだ
毛孔体積 0.85-0.95 Cm3/g
サポート資料 アルミニウム
圧力 3.5Mpa
産業 化学産業
化学産業 窒素化後 150~200m2/g 表面面積 生産性と効率の向上

化学産業 窒素化後 150~200m2/g 表面面積 生産性と効率の向上

形状 球状
圧力 3.5Mpa
適用する C2 の選択的水素化
動作温度 60〜100°C
選択率 80%
球体活性C3水素化触媒は再生性のある最大選択性を可能にします

球体活性C3水素化触媒は再生性のある最大選択性を可能にします

形状 球状
サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
活動 C3 水素化のための高い活性
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
選択率 高選択性のC3水素化
C3H2プラチナ触媒 選択的水素化のための安定性と表面面積の向上

C3H2プラチナ触媒 選択的水素化のための安定性と表面面積の向上

触媒の種類 サポートされた金属触媒
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
選択率 高選択性のC3水素化
安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
活性C3選択パラジウム水酸化催化器 単一サイズ30-35.C h2 pd催化器

活性C3選択パラジウム水酸化催化器 単一サイズ30-35.C h2 pd催化器

触媒の種類 サポートされた金属触媒
粒子の大きさ 狭い粒子の大きさ分布
形状 球状
活動 C3 水素化のための高い活性
活性金属 パラジウム (Pd)
活動C3 球状の優れた安定性を持つ選択的水素化反応触媒

活動C3 球状の優れた安定性を持つ選択的水素化反応触媒

サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
選択率 高選択性のC3水素化
触媒の種類 サポートされた金属触媒
安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
活動 C3 水素化のための高い活性
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