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中国 プロピレン生産におけるMAPD減少のための高度効果的C3選択的水素化触媒

プロピレン生産におけるMAPD減少のための高度効果的C3選択的水素化触媒

Active Metal Palladium
触媒の種類 異性
Thermal Stability High
Particle Size 1-3 mm
選択率 >95%
中国 高表面面積球状水素化触媒 触媒反応のための最適な解決策

高表面面積球状水素化触媒 触媒反応のための最適な解決策

形状 球状
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
選択率 高選択性のC3水素化
活性金属 パラジウム (Pd)
適用する C3炭化水素の選択的水素化
中国 C3のメタル触媒をサポートする アルミオキシド Al2O3のサポート材料の選択的水素化触媒

C3のメタル触媒をサポートする アルミオキシド Al2O3のサポート材料の選択的水素化触媒

触媒の種類 サポートされた金属触媒
形状 球状
活動 C3 水素化のための高い活性
安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
中国 高性能 C3 選択的水素化触媒 C3 水素の選択的変換

高性能 C3 選択的水素化触媒 C3 水素の選択的変換

粒子の大きさ 狭い粒子の大きさ分布
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
適用する C3炭化水素の選択的水素化
安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
中国 均質な孔位分布 C3 球状の形状のためにアルミオキシドAl2O3によってサポートされる選択的水素化触媒

均質な孔位分布 C3 球状の形状のためにアルミオキシドAl2O3によってサポートされる選択的水素化触媒

サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
触媒の種類 サポートされた金属触媒
粒子の大きさ 狭い粒子の大きさ分布
中国 厳しい条件下で優れた安定性C3 極端な温度のための選択的水素化触媒

厳しい条件下で優れた安定性C3 極端な温度のための選択的水素化触媒

活性金属 パラジウム (Pd)
粒子の大きさ 狭い粒子の大きさ分布
サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
活動 C3 水素化のための高い活性
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
中国 狭い粒子の分布 優れた安定性を持つパラジウム水素化触媒

狭い粒子の分布 優れた安定性を持つパラジウム水素化触媒

安定性 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性
選択率 高選択性のC3水素化
サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
活性金属 パラジウム (Pd)
毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
中国 表面面積 C3 選択的水素化プロセスの触媒 H2 KMH-03

表面面積 C3 選択的水素化プロセスの触媒 H2 KMH-03

毛穴の大きさ 均一な毛穴の大きさの分布
再生可能性 重要 な 活動 損失 を 伴っ て 何 回 も 再生 できる
触媒の種類 サポートされた金属触媒
表面面積 効率的な触媒活動のための高表面面積
活動 C3 水素化のための高い活性
中国 高級C3水素化触媒 Al2O3 選択性が強化された 30-35\u00b0C

高級C3水素化触媒 Al2O3 選択性が強化された 30-35\u00b0C

触媒の種類 サポートされた金属触媒
選択率 高選択性のC3水素化
サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
再生可能性 重要 な 活動 損失 を 伴っ て 何 回 も 再生 できる
動作温度 30〜35°C
中国 選択的なC3水素化のための球状パラジウム触媒 H2 Pd触媒

選択的なC3水素化のための球状パラジウム触媒 H2 Pd触媒

適用する C3炭化水素の選択的水素化
粒子の大きさ 狭い粒子の大きさ分布
触媒の種類 サポートされた金属触媒
選択率 高選択性のC3水素化
サポート資料 アルミオキシド (Al2O3)
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