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選択的水素化プロセスのための革新的なC2選択的水素化触媒

強化された水素化反応のためのカスタマイズ可能なC2選択性水素化触媒

3.5MPa 圧力 150~200 M2/g 表面面積選択的水化催化剤最適な性能

化学産業窒素化後 150~200m2/g 表面面積生産性と効率の向上

トップ C2 選択的水素化触媒 80% 選択性アルミナサポート材料の孔容量 0.85-0.95 Cm3/g

活性金属パラジウム水素化触媒高孔量 0.85-0.95 Cm3/g 精密かつ制御された反応のために

150〜200 M2/g パラジウム球体C2選択的水素化触媒 -60〜100C

150-200 M2/g 表面面積 3.5MPa C2 選択的水化触媒 80% 選択性

球状 60~100°C Pd 触媒 3.5MPa 強化された水素化選択性

3-4.5 mm 選択的水化のためのパラジウム化学触媒 0.85-0.95 Cm3/g

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トップ C2 選択的水素化触媒 80% 選択性アルミナサポート材料の孔容量 0.85-0.95 Cm3/g

活性金属パラジウム水素化触媒高孔量 0.85-0.95 Cm3/g 精密かつ制御された反応のために

150〜200 M2/g パラジウム球体C2選択的水素化触媒 -60〜100C

150-200 M2/g 表面面積 3.5MPa C2 選択的水化触媒 80% 選択性

球状 60~100°C Pd 触媒 3.5MPa 強化された水素化選択性

3-4.5 mm 選択的水化のためのパラジウム化学触媒 0.85-0.95 Cm3/g