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selective hydrogenation

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キーワード [ selective hydrogenation ] 一致 188 製品.

強化された水素化反応のためのカスタマイズ可能なC2選択性水素化触媒

強化された水素化反応のためのカスタマイズ可能なC2選択性水素化触媒

動作温度	60〜100°C
圧力	3.5Mpa
選択率	80%
活性金属	パラジウム
産業	化学産業

トップ C2 選択的水素化触媒 80% 選択性アルミナサポート材料の孔容量 0.85-0.95 Cm3/g

トップ C2 選択的水素化触媒 80% 選択性アルミナサポート材料の孔容量 0.85-0.95 Cm3/g

表面面積	150〜200m2/g
産業	化学産業
圧力	3.5Mpa
選択率	80%
適用する	C2 の選択的水素化

表面面積 C3 優れた安定性を持つ選択的水化催化剤サポートされた金属催化剤

表面面積 C3 優れた安定性を持つ選択的水化催化剤サポートされた金属催化剤

表面面積	効率的な触媒活動のための高表面面積
毛穴の大きさ	均一な毛穴の大きさの分布
安定性	厳しい状況の中で優れた安定性
粒子の大きさ	狭い粒子の大きさ分布
動作温度	30〜35°C

C3H2プラチナ触媒選択的水素化のための安定性と表面面積の向上

C3H2プラチナ触媒選択的水素化のための安定性と表面面積の向上

触媒の種類	サポートされた金属触媒
毛穴の大きさ	均一な毛穴の大きさの分布
選択率	高選択性のC3水素化
安定性	厳しい状況の中で優れた安定性
表面面積	効率的な触媒活動のための高表面面積

化学産業におけるC2選択的水素化のための球状パラジウム触媒

化学産業におけるC2選択的水素化のための球状パラジウム触媒

サポート資料	アルミニウム
圧力	3.5Mpa
産業	化学産業
表面面積	150〜200m2/g
形状	球状

150〜200 M2/g パラジウム球体C2選択的水素化触媒 -60〜100C

150〜200 M2/g パラジウム球体C2選択的水素化触媒 -60〜100C

表面面積	150〜200m2/g
形状	球状
活性金属	パラジウム
再利用可能性	そうだ
動作温度	60〜100°C

表面面積球状C3 選択的水化触媒パラジウム Pd

表面面積球状C3 選択的水化触媒パラジウム Pd

形状	球状
毛穴の大きさ	均一な毛穴の大きさの分布
活動	C3 水素化のための高い活性
表面面積	効率的な触媒活動のための高表面面積
適用する	C3炭化水素の選択的水素化

3-4.5 mm 選択的水化のためのパラジウム化学触媒 0.85-0.95 Cm3/g

3-4.5 mm 選択的水化のためのパラジウム化学触媒 0.85-0.95 Cm3/g

活性金属	パラジウム
粒子の大きさ	3〜4.5mm
産業	化学産業
圧力	3.5Mpa
サポート資料	アルミニウム

選択的水素化プロセスのための革新的なC2選択的水素化触媒

選択的水素化プロセスのための革新的なC2選択的水素化触媒

Operating Temperature	150-250°C
Shape	Spherical
Activity	>90%
Pore Size	8-12 nm
Pore Volume	0.3-0.5 mL/g

プロピレン生産におけるMAPD減少のための高度効果的C3選択的水素化触媒

プロピレン生産におけるMAPD減少のための高度効果的C3選択的水素化触媒

Active Metal	Palladium
触媒の種類	異性
Thermal Stability	High
Particle Size	1-3 mm
選択率	>95%

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