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selective hydrogenation

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購入強化された水素化反応のためのカスタマイズ可能なC2選択性水素化触媒オンライン製造者

強化された水素化反応のためのカスタマイズ可能なC2選択性水素化触媒

動作温度	60〜100°C
圧力	3.5Mpa
選択率	80%
活性金属	パラジウム
産業	化学産業

購入トップ C2 選択的水素化触媒 80% 選択性アルミナサポート材料の孔容量 0.85-0.95 Cm3/g オンライン製造者

トップ C2 選択的水素化触媒 80% 選択性アルミナサポート材料の孔容量 0.85-0.95 Cm3/g

表面面積	150〜200m2/g
産業	化学産業
圧力	3.5Mpa
選択率	80%
適用する	C2 の選択的水素化

購入表面面積 C3 優れた安定性を持つ選択的水化催化剤サポートされた金属催化剤オンライン製造者

表面面積 C3 優れた安定性を持つ選択的水化催化剤サポートされた金属催化剤

表面面積	効率的な触媒活動のための高表面面積
毛穴の大きさ	均一な毛穴の大きさの分布
安定性	厳しい状況の中で優れた安定性
粒子の大きさ	狭い粒子の大きさ分布
動作温度	30〜35°C

購入 C3H2プラチナ触媒選択的水素化のための安定性と表面面積の向上オンライン製造者

C3H2プラチナ触媒選択的水素化のための安定性と表面面積の向上

触媒の種類	サポートされた金属触媒
毛穴の大きさ	均一な毛穴の大きさの分布
選択率	高選択性のC3水素化
安定性	厳しい状況の中で優れた安定性
表面面積	効率的な触媒活動のための高表面面積

購入化学産業におけるC2選択的水素化のための球状パラジウム触媒オンライン製造者

化学産業におけるC2選択的水素化のための球状パラジウム触媒

サポート資料	アルミニウム
圧力	3.5Mpa
産業	化学産業
表面面積	150〜200m2/g
形状	球状

購入 150〜200 M2/g パラジウム球体C2選択的水素化触媒 -60〜100C オンライン製造者

150〜200 M2/g パラジウム球体C2選択的水素化触媒 -60〜100C

表面面積	150〜200m2/g
形状	球状
活性金属	パラジウム
再利用可能性	そうだ
動作温度	60〜100°C

購入表面面積球状C3 選択的水化触媒パラジウム Pd オンライン製造者

表面面積球状C3 選択的水化触媒パラジウム Pd

形状	球状
毛穴の大きさ	均一な毛穴の大きさの分布
活動	C3 水素化のための高い活性
表面面積	効率的な触媒活動のための高表面面積
適用する	C3炭化水素の選択的水素化

購入 3-4.5 mm 選択的水化のためのパラジウム化学触媒 0.85-0.95 Cm3/g オンライン製造者

3-4.5 mm 選択的水化のためのパラジウム化学触媒 0.85-0.95 Cm3/g

活性金属	パラジウム
粒子の大きさ	3〜4.5mm
産業	化学産業
圧力	3.5Mpa
サポート資料	アルミニウム

購入選択的水素化プロセスのための革新的なC2選択的水素化触媒オンライン製造者

選択的水素化プロセスのための革新的なC2選択的水素化触媒

Operating Temperature	150-250°C
Shape	Spherical
Activity	>90%
Pore Size	8-12 nm
Pore Volume	0.3-0.5 mL/g

購入プロピレン生産におけるMAPD減少のための高度効果的C3選択的水素化触媒オンライン製造者

プロピレン生産におけるMAPD減少のための高度効果的C3選択的水素化触媒

Active Metal	Palladium
触媒の種類	異性
Thermal Stability	High
Particle Size	1-3 mm
選択率	>95%

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