| 形状 | 球状 |
|---|---|
| 安定性 | 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性 |
| 表面面積 | 効率的な触媒活動のための高表面面積 |
| 毛穴の大きさ | 均一な毛穴の大きさの分布 |
| 選択率 | 高選択性のC3水素化 |
| 安定性 | 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性 |
|---|---|
| 動作温度 | 30〜35°C |
| 毛穴の大きさ | 均一な毛穴の大きさの分布 |
| 適用する | C3炭化水素の選択的水素化 |
| 活性金属 | パラジウム (Pd) |
| 触媒の種類 | サポートされた金属触媒 |
|---|---|
| 選択率 | 高選択性のC3水素化 |
| サポート資料 | アルミオキシド (Al2O3) |
| 再生可能性 | 重要 な 活動 損失 を 伴っ て 何 回 も 再生 できる |
| 動作温度 | 30〜35°C |
| 表面面積 | 100〜200m2/g |
|---|---|
| 外見 | 濃灰色から黒色 固体 |
| 動的機器 | パラジウム (Pd) |
| 毛孔体積 | 0.3-0.5 Cm3/g |
| プロモーター | アルミオキシド (Al2O3) |
| 形状 | グレー・ブラウン・クローバー |
|---|---|
| 材料 | アルミニウム |
| 化学組成 | アル2O3 |
| 再生可能性 | 良かった |
| 適用する | MAPDの除去のためのC3水素化触媒 |
| 触媒の種類 | サポートされた金属触媒 |
|---|---|
| 形状 | 球状 |
| 活動 | C3 水素化のための高い活性 |
| 安定性 | 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性 |
| 毛穴の大きさ | 均一な毛穴の大きさの分布 |
| サポート資料 | アルミナまたはシリコンアルミナ |
|---|---|
| 毛孔体積 | ≥0.35 ML/g |
| 散布密度 | 0.65-0.75 G/cm3 |
| 支援資料の内容 | ≥ 90 Wt% |
| 水素化選択性 | ≥ 95% |
| 再生可能性 | 重要 な 活動 損失 を 伴っ て 何 回 も 再生 できる |
|---|---|
| 安定性 | 厳しい 状況 の 中 で 優れた 安定性 |
| 毛穴の大きさ | 均一な毛穴の大きさの分布 |
| 動作温度 | 30〜35°C |
| 適用する | C3炭化水素の選択的水素化 |
| 保存 | 乾いた場所に保管する |
|---|---|
| 密度 | 0.55 G/cm3 |
| 純度 | ≥ 98% |
| 適用する | 2エチラントラキノンの水素化反応の催化剤 |
| 保存期間 | 2年 |
